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외교부

한·일·중 정상회의

한·중·일 지식재산 협력 10년 비전에 관한 공동성명

부서명
정책홍보담당관실
작성일
2024-05-27
조회수
512


@출처 대통령실 홈페이지 바로가기


한·중·일 지식재산 협력 10년 비전에 관한 공동성명



· 3국 지식재산 협력 10년 비전에 관한 공동성명



우리 대한민국, 일본국, 중화인민공화국 정상들은 제9차 3국 정상회의를 계기로 2024년 5월 27일 대한민국 서울에서 회동하였다.




대한민국 특허청, 일본국 특허청, 중국 국가지식재산국(이하 "3국청"으로 통칭함)간 3국 협력 23주년을 맞이하여, 3국 청장들은 2023년 11월 30일 대한민국 부산에서 3국 회의를 개최하여 3국 협력 과정을 점검하고 새로운 시대의 요구에 대응하기 위한 새로운 방향을 모색하였음을 상기하고,




3국청은 2001년 특허심사정보의 교환 및 활용 촉진, 특허심사관행의 조화, 국제규범 정립을 목표로 3국 지식재산(IP) 협력을 출범시켰음을 상기하고,




지난 23년 동안 지리적 근접성과 문화적 유사성을 바탕으로 3국청은 지속적으로 상호 신뢰를 증진하고 지식재산 자동화, 특허, 디자인, 인적자원 개발, 심판, 상표 등 6개 분야에서 협력을 심화했으며 특허권자가 발명 및 공개에 대한 대가로 독점권을 충분히 누릴 수 있도록 특허 보호를 강화해 왔다는 점을 인지하고,




지난 20년간 3국청이 처리한 특허 출원 건수가 세계 전체의 40%에서 60% 이상으로, 3국청의 상표 출원 활동은 세계 전체의 20%에서 50% 이상으로 증가하여 3국청이 동북아뿐만 아니라 전 세계 기술 발전과 경제 성장을 촉진하는 데 중요한 역할을 해왔다는 점을 인식하고,




향후 10년 동안 서로 다른 산업과 기술 간의 융합이 더욱 심화되고 과학기술 진보가 급속히 진전될 것이라는 견해를 공유하고,




기술 발전과 혁신이 코로나19와 같은 글로벌 위기 극복의 핵심이며, 지식재산이 이를 달성하기 위한 촉매제인 만큼, 우리는 3국 혁신가들의 지식재산 창출과 활용을 촉진하고 지식재산권을 적극적으로 보호하기 위해 지속적으로 협력할 필요가 있다는 점을 상기하고,




글로벌 지식재산 격차 해소를 위해 우리가 축적한 지식재산 경험을 더 많은 국가와 공유하기 위해 공동의 노력을 기울여야 할 때임을 재확인하면서,




우리는 향후 10년간 다음의 사항을 이행할 것을 지시하였다:




1. 3국청은 빠르게 변화하는 기술을 수용하고 포용할 수 있는 지식재산 시스템을 구축한다. 3국의 대학, 기업, 연구기관이 인공지능, 사물인터넷 등 4차 산업혁명 기술 분야에서 혁신적인 상품, 서비스, 솔루션을 개발하고 출시할 것으로 예상되는 만큼, 3국청은 이러한 창작물에 대해 적절한 유형의 지식재산권이 적시에 부여되고 법으로 적절히 보호될 수 있도록 관련 규범, 심사 관행 및 시스템을 개선하기 위해 함께 노력한다.




2. 3국청은 특허정보에 대한 대중의 접근성을 높이고 민간 부문의 특허 정보 활용을 장려하기 위해 공동으로 노력한다. 3국청은 특허정보 분석이 학계, 연구단체, 산업계의 연구개발 및 투자 활동의 방향 설정과 시장 진출 전략 수립에 훌륭한 지침이 될 수 있음을 인식한다. 이러한 정신에 따라 3국청은 자국의 특허정보를 상호 교환하고, 공유된 정보를 일반에 무료로 공개하며, 민간이 공개된 특허정보를 최대한 활용할 수 있도록 지원함으로써 다른 국가의 기술 개발 및 혁신 주도 성장을 위한 노력을 뒷받침한다.




3. 3국청은 "3국+X 지식재산 협력"을 추구하는데 있어 3국청이 함께 만들어온 소중한 성과를 공유하기 위해 3국을 넘어 다른 국가 또는 지역으로 지식재산 협력을 확대하기 위해 노력한다. 3국청은 지식재산 협력 파트너의 발굴을 희망할 때, 협력의 필요성이 있거나 시너지 효과를 창출할 수 있는 국가 또는 지역기구(예: 아세안)를 우선적으로 고려한다. 3국청은 이러한 노력이 글로벌 지식재산 격차를 좁혀 전세계의 균형 잡힌 성장을 위한 첫걸음이 될 것으로 믿는다.